Bagaimanakah lampu pengawetan gam UV kering? Apakah prinsip kerja lampu pengawetan gam UV? Pelekat pengawetan UV terdiri daripada resin asas, monomer aktif, photoinitiator dan komponen utama lain, penstabil, agen silang silang, agen gandingan dan agen tambahan lain. Lampu pengawetan gam UV disinari dengan cahaya UV dengan panjang gelombang yang sesuai, photoinitiator dengan cepat menjana agen atau ion bebas, dan kemudian memulakan pempolimeran dan penghubung silang resin asas dan monomer aktif untuk membentuk struktur rangkaian, supaya dapat mencapai ikatan bahan pelekat.
Bagaimanakah lampu pengawetan gam UV kering? Apakah prinsip kerja lampu pengawetan gam UV?
1.1.6 Secara teorinya, monomer terpolimer kationik boleh digunakan untuk pengawetan kationik. Ia boleh dipolimerkan secara kationik atau dikopolimerkan dengan pelbagai bahan monomer melalui sebatian heterosiklik seperti olefin, epoksi, ketal, cuka, silikon, dll. Dapatkan sifat fizikal dan kimia yang lebih baik. Resin asas filem pengawetan mekanisme jenis ini muncul pada akhir 1980-an, termasuk siri vinil eter dan siri epoksi. Resin eter vinil boleh didapati dengan tindak balas 311 vinil eter dan resin yang sepadan. Tetapi setakat ini, resin epoksi atau resin epoksi yang paling biasa digunakan atau diubah suai, terutamanya digunakan resin epoksi dan resin epoksi bisphenol A, resin silikon, polibutadiena terepoksida, getah asli terepoksida, dll. Yang paling biasa digunakan ialah resin epoksi bisphenol A, tetapi kelikatannya lebih tinggi dan pengagregatan lebih perlahan; sebatian epoksi alifatik secara amnya mempolimerkan lebih cepat, antaranya 3,4-epoxycyclohexyl carboxylate-3,4- Epoxy cyclohexyl methyl ester (CY179) ialah resin epoksi alifatik pengawetan kationik yang paling biasa digunakan. Kelikatannya yang rendah, pengagregatan dan kepantasannya boleh digunakan dengan resin epoksi bisphenol A. Sebatian epoksi mempunyai kadar pengecutan pembukaan cincin yang kecil. Berdasarkan beberapa sebatian polisiklik, komposisi pengawetan cahaya juga telah digunakan. Lampu pengawetan gam UV boleh mengembang dalam jumlah semasa proses pempolimeran, seperti asetat asal dalam proses pembukaan cincin. Kadar pengembangan volum setiap jam ialah 1.5%. Kompaun vinil eter kaya dengan elektron dan boleh digunakan sebagai reaktor pempolimeran pengawetan kationik atau pelarut.
Di satu pihak, pelarut memainkan peranan mencairkan, menjadikan pelekat mudah dikendalikan; sebaliknya, ia memainkan peranan pautan silang, jadi ia mesti mempunyai kereaktifan yang baik. Selepas pengawetan, ia memasuki rangkaian resin dan mempunyai pengaruh yang besar terhadap prestasi akhir produk yang diawetkan. Pencair reaktif biasanya ditambah untuk meningkatkan kelikatan, lekatan, fleksibiliti, kekerasan dan kelajuan pengawetan. Sifat mekanikal bahan pelarut yang berbeza mungkin sangat berbeza daripada resin asas. Terutamanya untuk kelikatannya yang rendah, pencairan yang tinggi dan keupayaan tindak balas yang tinggi, serta kemeruapan, ketoksikan, kerengsaan yang rendah dan bau yang tidak menyenangkan, harga yang rendah, kestabilan yang tinggi dan keserasian resin yang baik dan keperluan lain. Pelarut biasanya digunakan untuk melaraskan pelbagai sifat.
1.2.1 Pencairan aktif radikal bebas Pencairan aktif radikal bebas dibahagikan kepada monomer pelbagai fungsi akrilik generasi pertama yang dibangunkan sebelum ini, monomer pelbagai fungsi akrilik generasi kedua dan monomer akrilik generasi ketiga yang dibangunkan baru-baru ini. Generasi pertama monomer pelbagai fungsi akrilat ialah 1,6-propilena glikol akrilat (HDDA), 2,1,4-butanediol akrilat (BDDA), propilena glikol akrilat (DPGDA), gliserol akrilat (TPGDA) dan tiga kumpulan berfungsi Metil propana akrilat (TMPTA) dan pentaerythritol triacrylate (PETA), terutamanya berasaskan cahaya trietilena glikol akrilat metil propana (TMPTMA), dsb. Mereka menggantikan generasi pertama monomer monofungsi akrilik kereaktifan rendah. Walau bagaimanapun, dengan perkembangan pesat teknologi pengawetan ultraviolet, ia mendedahkan kelemahan besar kerengsaan kulit. Oleh itu, monomer akrilik generasi kedua dan ketiga telah dibangunkan untuk mengatasi kekurangan kerengsaan yang tinggi, aktiviti yang tinggi dan tahap pengawetan yang tinggi. Terutamanya memperkenalkan radikal etoksi atau oksigen ke dalam molekul monomer pelbagai fungsi asid akrilik generasi kedua, seperti trietilena glikol akrilat metil propana (TMP (EO) TMA), c oksigen trifluorometana Etilena glikol akrilat metil propana TMP (PO) TMA). Oksigen gliseril triakrilat c G(PO)TA o Monomer akrilik generasi ketiga terutamanya mengandungi metoksi akrilat, yang lebih baik menyelesaikan percanggahan antara kelajuan pengawetan tinggi dan kadar pengecutan tinggi dan tahap pengawetan rendah. Produk sedemikian terutamanya termasuk 1,6-heksanediol methoxy monoacrylate (HDOMEMA), ethoxyoxy neopentyl methoxy monoacrylate (TMP (PO) MEDA), menambah alkoksi dalam molekul Asas boleh mengurangkan kelikatan monomer dan mengurangkan kerengsaan monomer. Di samping itu, pengenalan kumpulan alkoksi lampu pengawetan air gam cahaya ultraungu meningkatkan keserasian monomer pencair.
1.4 Bahan tambahan lain
Fungsi utama peralatan tambahan ialah:
Proses pengeluaran pelekat halus;
Meningkatkan kestabilan penyimpanan bahan koloid;
Meningkatkan prestasi pembinaan pelekat;
Meningkatkan prestasi membran getah, dsb.
Pelekat pengawetan UV adalah terutamanya penstabil, agen perata, penyahbuih, pemplastis dan agen gandingan.
